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画的作者是谁 画的作者是高鼎吗

画的作者是谁 画的作者是高鼎吗 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日消(xiāo)息,国(guó)家知识产权局局长(zhǎng)申(shēn)长雨在新(xīn)闻发布会上表示(shì),将统(tǒng)筹(chóu)推(tuī)进各类知识产权法律(lǜ)法规和(hé)制度规(guī)则的制修订工作(zuò)。其中,修改完善集成(chéng)电路布(bù)图设计(jì)保护条例,适应大(dà)规模集成电路发展需要(yào),助力芯片产业做大(dà)做强,服务(wù)数字经济更好发(fā)展。

  加强大数据(jù)、人工智能(néng)、基因技(jì)术等(děng)新(xīn)领域(yù)新业态知识产权(quán)规则(zé)研究,助(zhù)力(lì)相(xiāng)关领域创新发(fā)展。同时,积极参与知识(shí)产权国际规则制定,更好对(duì)接高标准(zhǔn)国际经(jīng)贸规则(zé画的作者是谁 画的作者是高鼎吗),助力高水平对外开放。

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