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　　美光公(gōng)司在(zài)华(huá)销售的产(chǎn)品未通过网络安全审(shěn)查(chá)

　　据(jù)网信办消息，日前，网络安全审查办(bàn)公室依法对(duì)美光公司在(z衣服为什么晾完会臭，衣服为什么晾完会臭呢ài)华销售产(chǎn)品进行了网络安全审查。

　　审(shěn)查(chá)发现，美光公司(sī)产品(pǐn)存在较严重网络安(ān)全问(wèn)题隐患，对我(wǒ)国关键信息基础设施供应(yīng)链造成重大安全风险(xiǎn)，影响我(wǒ)国国家安全。为此，网络安全审(shěn)查办公室依法(fǎ)作出不予通过网络安(ān)全审查的结论。按照(zhào)《网络(luò)安(ān)全法》等法律(lǜ)法规，我国内关键(jiàn)信息基础设施的(de)运营者应(yīng)停止采购美光公(gōng)司产品。

　　此次对美光公司产品进行网络安全(quán)审查，目的(de)是防范(fàn)产品(pǐn)网络安全(quán)问题危害(hài)国家关键信息基(jī)础设施安全，是维护国家安全的必要措施。中国坚定推进高水(shuǐ)平对外开放，只要遵守中(zhōng)国法(fǎ)律法规要求，欢迎各国企业、各类平台(tái)产(chǎn)品(pǐn)服务进(jìn)入中(zhōng)国市场。

　　3月31日，中国(guó)网(wǎng)信网发文称，为(wèi)保障关(guān)键(jiàn)信息基(jī)础设施供应链安全，防范产(chǎn)品问(wèn)题隐患造成(chéng)网(wǎng)络安全风险，维护国(guó)家安(ān)全，依据《中华(huá)人民共和国国家(jiā)安全法(fǎ)》《中华(huá)人民(mín)共和(hé)国网络安全法》，网络安全审查办公(gōng)室(shì)按照《网络安全审查办法》，对(duì)美光公(gōng)司（Micron）在(zài)华(huá)销售的产品实施(shī)网络安(ān)全审(shěn)查。

　　美光(guāng)是美国(guó)的存储芯(xīn)片(piàn)行业龙头(tóu)，也是全球存储芯片巨头之一，2022年收入(rù)来自中国市场收入从(cóng)此前高峰57％降至2022年约11％。根(gēn)据(jù)市场咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计(jì)，2021 年三星电子(zi)、 铠侠(xiá)、西部数据(jù)、SK 海力士(shì)、美(měi)光、Solidigm 在全球(qiú) NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星(xīng)电(diàn)子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额(é)约为(wèi) 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙(lóng)、佰(bǎi)维存储等公司披露(lù)过美光(guāng)等国(guó)际存储厂商为公司供应(yīng)商。

　　美光在江波龙(lóng)采(cǎi)购(gòu)占(zhàn)比已经显著下降(jiàng)，至少已经不是(shì)主要大(dà)供应商。

　　公告(gào)显示， 2021年美光(guāng)位列江(jiāng)波(bō)龙第一大(dà)存(cún)储(chǔ)晶圆供应(yīng)商，采购约(yuē)31亿元，占比33.52％；2022年，江波(bō)龙第(dì)一大(dà)、第二大和第三大供应商采购金额占(zhàn)比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在(zài)存储产业(yè)链上下游建立国内(nèi)外广泛合(hé)作(zuò)。2022年年报显示，江波龙与(yǔ)三星(xīng)、美光、西(xī)部数据等主(zhǔ)要存储晶圆原(yuán)厂签署(shǔ)了(le)长(zhǎng)期合约，确保存储晶(jīng)圆供应的稳定性(xìng)，巩固公司在(zài)下(xià)游市场的(de)供应(yīng)优势(shì)，公(gōng)司也与国(guó)内国产存储(chǔ)晶圆原厂武(wǔ)汉长江存储、合(hé)肥长鑫保(bǎo)持良好的(de)合(hé)作。

　　有券(quàn)商此前就分(fēn)析(xī)，如果美光(guāng)在中(zhōng)国(guó)区销售受到(dào)限制，或将导致(zhì)下游客(kè)户转而采购国外三(sān)星、 SK海力(lì)士，国(guó)内(nèi)长(zhǎng)江存储、长鑫存储等竞(jìng)对产品(pǐn)衣服为什么晾完会臭，衣服为什么晾完会臭呢ng>

　　分(fēn)析称，长存、长鑫的上游设备厂或从中受(shòu)益。存(cún)储(chǔ)器(qì)的生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外(wài)NAND Flash现(xiàn)在已经进(jìn)入3D NAND时(shí)代，2 维到(dào)3维的结(jié)构转变使刻蚀和薄膜成为最(zuì)关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉(chén)积工艺(yì)步骤，同时刻(kè)蚀(shí)目(mù)前(qián)前沿要(yào)刻到 60：1的深孔，未(wèi)来可能会更深(shēn)的(de)孔或者(zhě)沟(gōu)槽，催生更多(duō)设(shè)备需求。据(jù)东京电(diàn)子披露，薄膜沉(chén)积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资(zī)本开支合计为75％。自长江存储被加(jiā)入(rù)美国限制名单，设备国产化进(jìn)程加速，看好拓(tuò)荆科(kē)技（薄膜沉积(jī)）等相关(guān)公司份额提升，以(yǐ)及存储业(yè)务占比较高的(de)华海清科（CMP）、盛美(měi)上海(hǎi)（清洗(xǐ)）等收入增长。